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超高真空磁控濺射鍍膜機
采用無盲點鍍膜技術,支點可以自動切換,雙真空室,內(nèi)外表面鍍制TiN-GIMS,并且配置矩形和柱狀磁控濺射靶和氣體離子源...
1、極限真空度 5.0*10-5Pa
2、無盲點鍍膜技術
3、支點自動切換技術
4、雙真空室
5、內(nèi)外表面鍍制TiN-GIMS
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