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DLC類金剛石涂層設(shè)備

我公司的DLC類金剛石膜的制備方式采用陽極層流性氣體離子源結(jié)合非平衡磁控濺射的方法，來獲得納米多層結(jié)構(gòu)的MeC/DLC膜、納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的Me-DLC膜或單（多）元素摻雜的類金剛石膜...

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用GIS離子源技術(shù)制備DLC類金剛石膜

目前DLC類金剛石膜的制備方法很多，如：離子束輔助沉積、磁控濺射、真空陰極電弧沉積、等離子體增強化學氣相沉積、離子注入法等。我公司的DLC類金剛石膜的制備方式采用陽極層流性氣體離子源結(jié)合非平衡磁控濺射的方法，來獲得納米多層結(jié)構(gòu)的MeC/DLC膜、納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的Me-DLC膜或單（多）元素摻雜的類金剛石膜。

我公司可以用來制備DLC類金剛石膜的設(shè)備主要是AS600型和AS500型兩種。

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