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霍廷格工程師現(xiàn)場(chǎng)指導(dǎo)HIPIMS電源在真空離子鍍膜機(jī)的結(jié)合測(cè)試
發(fā)布時(shí)間：2017-04-06
德國(guó)霍廷格公司TruPlasmaHighpulse4000系列發(fā)生器是HIPIMS應(yīng)用的首要之選，作為最先進(jìn)的脈沖式PVD濺射方法，也是真空PVD離子鍍膜機(jī)的重要組成部分，HIPIMS可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質(zhì)鍍膜，可達(dá)8MW的峰值功率以較高的離子通量產(chǎn)生非常密集的等離子體。與電弧放電的原理類似，但HIPIMS技術(shù)不會(huì)形成微液滴droplet。
霍廷格工程師現(xiàn)場(chǎng)指導(dǎo)
這是丹普公司第二次集成霍廷格公司的HIPIMS電源，為了更好的幫助丹普工程師了解新HIPIMS電源的功能，來自霍廷格波蘭工廠的HIPIMS開發(fā)工程師于2017年4月5日，到丹普工廠，現(xiàn)場(chǎng)指導(dǎo)丹普工程師進(jìn)行HIPIMS電源的工作測(cè)試及各種參數(shù)設(shè)置原則。
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