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丹普受邀參加霍廷格舉辦的等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議

發(fā)布時(shí)間:2023-02-14

  等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議(Power Electronics For Plasma Engineering,簡(jiǎn)稱PE2),于2017年5月16-18日在位于波蘭杰隆卡的霍廷格公司(TRUMPF Huettinger)舉行。會(huì)議由霍廷格公司專家主持,會(huì)議每年召開(kāi)一次,本次會(huì)議邀請(qǐng)了國(guó)際上電子電力及表面領(lǐng)域的知名專家、學(xué)者以及企業(yè)界代表,北京丹普表面技術(shù)有限公司也應(yīng)邀派專家參會(huì),共同對(duì)表面處理及離子工程技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀、發(fā)展趨勢(shì)、如何進(jìn)一步推進(jìn)行業(yè)發(fā)展等話題進(jìn)行了熱烈討論。本次會(huì)議參會(huì)人數(shù)達(dá)到100余人,參會(huì)代表覆蓋多個(gè)國(guó)家和地區(qū),在國(guó)內(nèi)外電子電力及表面處理工程領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)水平和廣泛的影響力。
 

 
  在16日的會(huì)議中,霍廷格公司Dr.R.Bugyi先生致歡迎辭,Schaeffler集團(tuán)公司的Dr.Y.Musayev對(duì)汽車和工業(yè)廠家如何通過(guò)表面技術(shù)實(shí)現(xiàn)增值做簡(jiǎn)短的介紹;Hauzer公司的D.Doerwald和R.Tietema對(duì)PVD技術(shù)的發(fā)展做了介紹;First Solar公司的B.Clark-Phelps和M.Latusek做了ARC管理對(duì)材料濺射的重要性的演講;霍廷格公司P.Lesiuk做了在光學(xué)和功能性涂料的反應(yīng)沉積由反向電壓和脈沖參數(shù)設(shè)置的修改過(guò)程和薄膜性質(zhì)的報(bào)告;以及眾多專家在電氣、光學(xué)、表面及材料處理方面做了精彩的演講。
 

會(huì)議現(xiàn)場(chǎng)


北京丹普表面技術(shù)有限公司董騏經(jīng)理與國(guó)外專家交換意見(jiàn)


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