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丹普受邀參加霍廷格舉辦的等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議
發(fā)布時(shí)間：2023-02-14
等離子工程電子電力應(yīng)用會(huì)議（Power Electronics For Plasma Engineering，簡稱PE2），于2017年5月16-18日在位于波蘭杰隆卡的霍廷格公司（TRUMPF Huettinger）舉行。會(huì)議由霍廷格公司專家主持，會(huì)議每年召開一次，本次會(huì)議邀請(qǐng)了國際上電子電力及表面領(lǐng)域的知名專家、學(xué)者以及企業(yè)界代表，北京丹普表面技術(shù)有限公司也應(yīng)邀派專家參會(huì)，共同對(duì)表面處理及離子工程技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀、發(fā)展趨勢、如何進(jìn)一步推進(jìn)行業(yè)發(fā)展等話題進(jìn)行了熱烈討論。本次會(huì)議參會(huì)人數(shù)達(dá)到100余人，參會(huì)代表覆蓋多個(gè)國家和地區(qū)，在國內(nèi)外電子電力及表面處理工程領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)水平和廣泛的影響力。
在16日的會(huì)議中，霍廷格公司Dr.R.Bugyi先生致歡迎辭，Schaeffler集團(tuán)公司的Dr.Y.Musayev對(duì)汽車和工業(yè)廠家如何通過表面技術(shù)實(shí)現(xiàn)增值做簡短的介紹；Hauzer公司的D.Doerwald和R.Tietema對(duì)PVD技術(shù)的發(fā)展做了介紹；First Solar公司的B.Clark-Phelps和M.Latusek做了ARC管理對(duì)材料濺射的重要性的演講；霍廷格公司P.Lesiuk做了在光學(xué)和功能性涂料的反應(yīng)沉積由反向電壓和脈沖參數(shù)設(shè)置的修改過程和薄膜性質(zhì)的報(bào)告；以及眾多專家在電氣、光學(xué)、表面及材料處理方面做了精彩的演講。
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